逆浸透膜式造水ユニット
WP-40000HG-SS 基本仕様
| 概略寸法 | W1800×D1100×H1800(mm) |
|---|---|
| 乾燥時重量 | 約300kg |
| 電源 | AC100V 50Hz/60Hz AC200V (三相) 50Hz/60Hz |
| 消費電力 | AC100V:300W AC200V:60Hz 4kw/50Hz 2.2kw |
| 使用環境 | 屋内 |
| 屋内温度 | 5℃～35℃ 以内 |
| 騒 音 | 正面1ｍ地点 約70dB以下 |
特 徴
先進のハイパフォーマンス
本格的な産業用ニーズに対応する40t／日システム。
制御盤には導電率計（横河電機／テクノモリオカ等）や各種LEDスイッチ類を配し、メンテナンス情報に関する視認性やメンテナンスの簡便性品に関する操作性を十分に考慮した設計となっております。
又リサイクルシステムも標準装備し無駄な廃棄水を低減します。
食品製造から電子部品洗浄用ニーズに至るまで周辺システムとのカスタマイズ性も十分です。
経済的ランニングコスト
前処理システムとシステムの制御に関する独自のプログラムによるシステムのクリーニング機能により、同能力の他社システムに比べ非常に大きな経済的ランニングコストで運転が可能です。
又ユーザーの使用条件に合わせ豊富な前処理システムも提案致します。
※必ず水質検査に基づき、設置環境（前処理システム）を決定して下さい。
こんな用途に
| 用途 | 使用場所 |
|---|---|
| ■電子機器 | 光・磁気ディスク作成／半導体製造工程 |
| ■食品 | 食品製造用原料水／洗浄さらし水／希釈水 （濃縮ジュース、牛乳等）／清涼飲料製造用水 |
| ■医薬品製造 | 手術用手洗い水他各種洗浄用水／無菌室特殊治療室 |
| ■化学薬品 | 病原体研究／化粧品／希釈水／薬品用原料水希釈水 |
| ■印刷 | オフセット印刷用湿し水 |
| ■半導体 | 単結晶作成／半導体製造行程 |
| ■微生物工学 | 遺伝子組み換え／バイオリアクター |
| ■精密機器 | ミニチュアベアリング／時計作製 |
| ■工学 | レンズ作製／商品検査／etc |
産業用 逆浸透膜 純水装置 WP-40000HG-SS仕様
| 概略寸法 | W1800×D1100×H1800(mm) | 機器使用水質条件 | |
|---|---|---|---|
| 乾燥時重量 | 約300kg | 原水TDS | 300ppm以下 |
| 電源 | AC100V 50Hz/60Hz AC200V (三相) 50Hz/60Hz | 原水水温 | 5℃～35℃以内 |
| 消費電力 | AC100V:300W | FI 値 | 4以下 |
| AC200V:60Hz | シリカ | 25mg以下 | |
| 使用環境 | 屋内 | 残留塩素 | 1ppm以下 |
| 屋内温度 | 5℃～35℃ 以内 | 低溶解度塩類 | 要調査 |
| 騒 音 | 正面1ｍ地点 約-dB以下 | ケイ酸塩類 | 要調査 |
| 使用原水 | 水道水・井戸水(水質条件有り)※別途前処理が必要 | 性 能 | |
| 供給水量 | 60L/min以上 | 目標造水量 | 27.8L/min(40,000L/日)(原水25°C) |
| 原水圧力 | 0.3～0.6MPa | 目標回収率 | 50%以上（原水により決定） |
| 運転圧力 | 0.3~1.0MPa | 目標水質 | 10ppm以下 |